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    　　一、PVD工藝

    　　PVD(Physical Vapor Deposition)，即物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

    　　PVD相對(duì)電鍍的優(yōu)勢(shì)

    　　1、顏色豐富，裝飾性強(qiáng)

    　　可以讓衛(wèi)浴產(chǎn)品附上其他顏色，相對(duì)于傳統(tǒng)金屬原色，讓廚衛(wèi)空間更加與眾不同。另外，表面處理工藝質(zhì)感較強(qiáng)，讓裝修顯得更加高檔。

    　　2、生產(chǎn)過(guò)程不產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)

    　　在涂層前處理中，采用環(huán)保型的金屬清洗劑對(duì)工件表面進(jìn)行去油和脫脂處理，烘干后工件放入真空室中進(jìn)行PVD鍍鉻處理。

    　　鍍鉻過(guò)程以高純金屬鉻為原料，通入氮?dú)夂蜌鍤獾绕垦b氣體，在沉積鉻復(fù)合涂層的專用設(shè)備中，采用先進(jìn)的等離子體源輔助電弧-濺射等先進(jìn)技術(shù)，通過(guò)電場(chǎng)、磁場(chǎng)、等離子體和離子束流的作用，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)了鉻復(fù)合涂層的生成。

    　　使用的原材料價(jià)廉易得，國(guó)內(nèi)可以大量供應(yīng)。在整個(gè)工藝生產(chǎn)過(guò)程中，沒(méi)有采用任何有毒有害的原料，是完全無(wú)污染的綠色環(huán)保生產(chǎn)技術(shù)。


    　　3、優(yōu)越的涂層性能

    　　與電鍍鉻相比，PVD鉻涂層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800～900，而PVD方法可以達(dá)到Hv1500以上，同時(shí)耐磨性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鉻。PVD方法在涂層制備過(guò)程中涂層致密，沒(méi)有孔洞，不會(huì)產(chǎn)生穿透性裂紋，導(dǎo)致腐蝕介質(zhì)從表面滲透至界面而腐蝕基體，造成鍍層表面出現(xiàn)銹斑甚至剝落。

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